洁净工程的气流是左右洁净室性能的重要因素
洁净工程的主要作用是控制工程产品（例如硅芯片等）在与大气的温度和湿度清洁度的接触，从而使产品能够以良好的空间环境来生产，制造，我们称此为洁净室空间。根据国际惯例，主要是无尘净化车间水平由比每个划分标准立方米空气的粒径较大的粒子的数量决定。所谓的无尘不是100％干净的任何灰尘，而是控制在单位一个非常小的量。当然，这个标准与尘埃颗粒的标准线相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造来说，甚至灰尘一点点就会有非常大的负面影响，因此生产光学产品在灰尘净化度的必然要求。
在另一方面要实现的洁净室的洁净度的稳定效果，空气流保持均匀也是一个重要的因素，如果不能维持均匀的空气流，指示风速是不同的，特别是在壁面，所述壁将延长涡气流发生，此时高洁净度其实很难。
垂直层流式学习方向要保持稳定均一以及气流组织必须：（a）吹出面的风速具有不可有速度上的差异；（b）地板系统回风板吸入面之风速影响不可有速度上的差异。速度要求过低或过高（0.2m/s，0.7m/s）均有出现涡流之现象已经发生，而0.5m/s之速度，气流则较均一，一般工业洁净室，其风速均取在0.25~0.5m/s之间。
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