在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。河南万达环保生产的超纯水设备用于硅片生产等电子半导体行业，能满足客户的用水要求。
电子半导体行业用纯水设备工艺介绍：
1.原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→加药装置→精密过滤器→高压泵1→一级反渗透→中间水箱→高压泵2→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点
2.原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→加药装置→精密过滤器→高压泵1一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点
河南万达环保电子半导体行业用纯水设备产品特点：
1.连续运行产水质稳定品质更佳。
2.系统运行可靠性稳定。
3.运行成本低。
4.占地面积小。
5.自动化程度高。
6.操作及维护简单，无需接触酸碱。
7.使用安全及环境良好。
8.无污水排放，无环境污染。
河南万达环保电子半导体行业用纯水设备产品参数：
1.电导率：2-10μS/cm（25℃）
2.PH值：6.5－9
3.水温度：5～35℃
4.总硬度：<0.5ppm
5.有机物：<0.5 ppm,TOC为零
6.氧化物：≤0.05ppm
7.铁、锰：<0.01ppm
8.二氧化硅：<0.05 ppm
9.二氧化碳：<5ppm
关键字：
电子半导体行业用纯水设备
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